Münster 1999 – wissenschaftliches Programm
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TT: Tiefe Temperaturen
TT 21: Postersitzung III: Hochfrequenzeigenschaften (1-4), Amorphe Systeme (5-9), Borkarbide (10-18), Quantenflüssigkeiten (19-25), Dünne Filme (26-49), Vortexdynamik, Pinning (50-63), M-I-Überg
änge, quantenkritische Ph
änomene (64-89)
TT 21.29: Poster
Donnerstag, 25. März 1999, 14:30–18:00, Foy
Optimierung des Sputterprozesses bei der Herstellung hochtemperatur-supraleitender Tl2Ba2CaCu2O8-Filme — •H. Schneidewind, H. Bruchlos und M. Manzel — Institut für Physikalische Hochtechnologie Jena e.V.
Tl2Ba2CaCu2O8-Filme (Tl-2212) lassen sich durch Tempern thalliumfreier Ba2CaCu2Ox-Filme in einer Tl2O/O2-Atmosphäre herstellen. Die thalliumfreien Precursorfilme erhält man durch Kathodenzerstäubung entsprechender Metall-Legierungs-Targets in einer HF-Entladung.
Für die Herstellung hochwertiger epitaktischer Tl-2212-Filme auf 2-Zoll-Lanthanaluminat-Substraten muß der Zerstäubungsprozeß optimiert werden. Wie berichten über den Einfluß der Technologieparameter auf die Kationenstöchiometrie, den Sauerstoffgehalt und die chemische Resistenz der aufgestäubten Filme gegenüber der Atmosphäre. Weiter wird der Einfluß der Entladungsbedingungen auf die Entstehung von Strukturschäden in diesen Filmen beschrieben. Durch Optimierung sowohl des Zerstäubungs- als auch des Tl2O-Beladungsprozesses lassen sich Tl-2212-Filme mit Oberflächenwiderständen bis 100 µΩ bei 5,6 GHz und 77 K herstellen, die für die Produktion hochwertiger Mikrowellenbauelemente eingesetzt werden.
Gefördert vom BMBF unter 13 N 6826/0.