Bonn 2000 – wissenschaftliches Programm
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P: Plasmaphysik
P 21: Dichte Plasmen (Poster)
P 21.9: Poster
Donnerstag, 6. April 2000, 17:00–19:30, Aula
Die Kapillarentladung als intensive inkohärente VUV-Strahlungsquelle — •L. Juschkin1, Y. Ralchenko2 und H.-J. Kunze1 — 1Institut für Experimentalphysik V, Ruhr-Universität, 44780 Bochum, Germany — 2Department of Particle Physics, Weizmann Institute of Science, Rehovot 76100, Israel
Die Emission des Plasmas einer Kapillarentladung (maximaler Strom 60 kA, Dauer der Entladung ∼ 2 µ s) wird spektroskopisch untersucht. Einzelne Linien werden dabei in Hinsicht auf eine möglichst hohe Strahlungsintensität optimiert. Ein Pseudo-Planck-Strahler bei Resonanzlinien von ArVIII (700.2 Å, 713.8 Å) und von NeVIII (770.4 Å, 780.3 Å) wurde bereits realisiert [1]. Durch die Anwendung einer kürzeren Kapillare und einer Hohlkathode läßt sich bei den gleichen Strahlungscharakteristiken die gesamte Entladungsenergie um den Faktor 2 reduzieren, was die Anlage für potentielle Anwendungen attraktiver macht.
Die Zeitabhängigkeit der Elektronendichte wurde mittels der Starkverbreitung der 6h-5g Linie, sowie der 6g-5f Linie von ArVIII bestimmt. Aus den Absolutwerten der Strahldichte der optisch dicken ArVIII-Resonanzlinien wurde die Plasmatemperatur von 30 – 40 eV ermittelt.
Daraufhin wurden auch die Resonanzlinien von ArIX bei 48.73 Å und 49.18 Å untersucht. Das Intensitätsverhältnis beider Linien entspricht dem mit einem Stoß-Strahlungsmodell berechneten Wert, was die gemessenen Plasmaparameter bestätigt und eine zukünftige Modellierung der Plasmaemission ermöglicht.
[1] L. Juschkin, A. Hildebrand and H.-J. Kunze, Plasma Sources Sci. Technol. 8, 370 (1999)