Regensburg 2000 – wissenschaftliches Programm

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HL: Halbleiterphysik

HL 8: Photonik

HL 8.9: Vortrag

Montag, 27. März 2000, 18:30–18:45, H17

Photowiderstände mit Schichtsystemen aus porösem Silicium als spektral selektives Element — •Mike Wolter, Michel Marso, Rüdiger Arens-Fischer und Hans Lüth — Institut für Schicht- und Ionentechnik, Forschungszentrum Jülich GmbH

Mit Schichtsystemen aus porösem Silicium ist es möglich Interferenzfilter herzustellen, die einen gewünschten Spektralbereich transmittieren. Wird ein solches Filter auf einem Photowiderstand platziert, so werden in diesem freie Ladungsträger nur von Photonen erzeugt, die in dem gewählten Spektralbereich liegen. Ein Vorteil des Materialsystemes ist es, dass Filter und Photowiderstand aus dem gleichen Substrat hergestellt werden können.

Es wird ein Herstellungsprozess vorgestellt, der sich dadurch auszeichnet, dass sich die Herstellung des Bauelementes auf wenige Prozessschritte beschränkt. Die optoelektronisch gemessenen, spektralen Empfindlichkeiten verschiedener mit diesem Verfahren prozessierten Photowiderstände werden gezeigt und diskutiert.