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Regensburg 2000 – wissenschaftliches Programm

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M: Metallphysik

M 12: Diffusion

M 12.2: Vortrag

Donnerstag, 30. März 2000, 10:30–10:45, H6

Diffusion von implantierten 59Fe-Radiotracer-Atomen in dem metallischen Massivglas Zr65Cu17,5Ni10Al7,5 — •Petra Schaaff1, S. Matics2, K. Freitag3 und W. Frank1,21MPI f. Metallforschung, Stuttgart — 2Inst. f. Theoret. u. Angew. Physik der Univ. Stuttgart — 3Inst. f. Strahlen- und Kernphysik der Univ. Bonn

Mit Hilfe des Radiotracer-Verfahrens wurde die 59Fe-Diffusion in dem metallischen Massivglas Zr65Cu17,5Ni10Al7,5 zwischen 400oC und 310oC gemessen. Hierzu wurden die 59Fe-Radioisotope mit 140 keV durch eine an der Oberfläche vorhandene Oxidschicht in eine Tiefe von ca. 70 nm implantiert. Die Schichtenteilung erfolgte mittels Ionenstrahlzerstäubung. Die Eindringprofile werden im Hinblick auf mögliche Oberflächeneffekten und Einflüsse der Implantation diskutiert. Die Temperaturabhängigkeit des Diffusionskoeffizienten wird mit den Ergebinssen über die Ni-Diffusion in der gleichen Legierung von Knorr et al. [1] verglichen. Im Rahmen der Messungenauigkeit stimmen die Diffusionskoeffizienten für die 59Fe-Fremddiffusion und die 63Ni-Selbsdiffusion überein.

[1] K. Knorr, H. Mehrer,M.-P. Macht, Verhandl. DPG (VI) 34,856 (1999)

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