Regensburg 2000 – wissenschaftliches Programm

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O: Oberflächenphysik

O 11: Postersession (Eröffnung)

O 11.44: Poster

Montag, 27. März 2000, 19:00–22:00, Bereich C

STM-Untersuchungen zu Blei-induzierten Rekonstruktionen auf Si(111) — •Christoph Seifert¹, Rüdiger Hild² und Michael Horn-von Hoegen² — ¹Institut für Festkörperphysik, Universität Hannover — ²Institut für Laser und Plasmaphysik, Universität GH Essen, Universitätsstr. 5, 45117 Essen

Blei adsorbiert auf Si ohne Ausbildung einer starken chemischen Bindung und kann bei Temperaturen ab 560 ^∘C vollständig desorbiert werden. Deshalb ist ein Einsatz als Surfactant (surface active species) möglich. Bei der Adsorption auf der Si(111) Fläche kommt es zu verschiedenen von der Bedeckung abhängigen Rekonstruktionen. Im sub-Monolagenbereich bilden sich (√3 ×√3) Rekonstruktionen mit Bleiatomen auf T4 Position aus. In einem Zwischenbereich bildet sich neben der sogenanntenβ (√3 × √3) auch eine (1x1)-Struktur aus, bei der die Pb Atome auf T1 Plätzen adsorbiert sind. Die Randbereiche der (1x1) Rekonstruktion weisen eine Modulation der elektronischen Zustandsdichte mit einer Wellenlänge von 10-15 Å auf. Deren Natur ist nicht geklärt, es handelt sich bei diesen auch bei RT sichtbaren Features aber nicht um stehende Elektronenwellen in Oberflächenzuständen. Für noch höhere Bedeckungen bildet sich eine gestreifte und hexagonalgeordnete Phase von Domänenwänden aus.