Regensburg 2000 – wissenschaftliches Programm
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O: Oberflächenphysik
O 11: Postersession (Eröffnung)
O 11.68: Poster
Montag, 27. März 2000, 19:00–22:00, Bereich C
Tieftemperatur-Rasterkraftmikroskop mit 3D-Probenpositionierung und atomarer Auflösung — •Shenja Langkat, Wolf Allers, Udo Schwarz und Roland Wiesendanger — Institut für Angewandte Physik, Jungiusstraße 11, 20355 Hamburg
Neben dem Rastertunnelmikroskop bietet mittlerweile auch das im dynamischen Modus betriebene Rasterkraftmikroskop (RKM) echte atomare Auflösung mit dem Vorteil, auch nichtleitende Proben untersuchen zu können. Zur Untersuchung von Adsorbatfilmen auf geeigneten Substraten bis hin zur Abbildung einzelner Adsorbatatome haben wir unser früher bereits vorgestelltes Design [1] wesentlich verbessert.
Das RKM befindet sich in einem mit einem Badkryostaten ausgestatteten schwingungsisolierten UHV-System. Mittels einer in der Probenhalterung integrierten Kombination aus Heizung und Temperatursensor, sowie der Wahl eines geeigneten Kühlmittels (LHe / LN2), läßt sich jede beliebige Probentemperatur zwischen 10 K und 400 K einstellen. Um eine bestmögliche Auflösung zu erreichen, wurde ein geringer Rasterbereich von 530 nm × 530 nm bei 10 K gewählt. Um trotzdem einen großen Bereich der Probe zugänglich zu machen, verfügt das Gerät über einen tieftemperaturkompatiblen Probenverschiebetisch mit einem Stellweg von 3 mm × 3 mm.
Es werden erste Testmessungen gezeigt, die die Leistungsfähigkeit des RKM dokumentieren.
[1] W. Allers, A. Schwarz, U. D. Schwarz, R. Wiesendanger, Rev. Sci. Instrum. 69, 1 (1998)