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AM: Magnetismus

AM 9: Poster: Magnetowid. (1-17), Dü. Schichten (18-34), Oberfl
ächenmag. (35,36), Mikr. Methoden (37-45), Mikromag. (46-58), Phasenüberg. (59-77), Spektroskop. (78-91), Nanokr.Mat.(92-96), Anisotrop. (97-101), Schmelzen(102-104),Sonst/postdeadl.(105-109)

AM 9.13: Poster

Dienstag, 27. März 2001, 14:45–19:00, Foyer S 3

Korrelation von Riesenmagnetwiderstand und Domänenstruktur in Cu/Permalloy-Multilagen — •D. Elefant, O. de Haas, R. Schäfer, L. Schultz, D. Tietjen, L. van Loyen und C.M. Schneider — IFW Dresden, PF 270016, D-01171 Dresden

Durch Magnetronsputtern wurden Cu/Permalloy-Multilagen im Schichtdickenbereich des 1. und 2. antiferromagnetischen (afm) Kopplungsmaximums hergestellt, wobei Riesenmagnetwiderstände bis ≈ 50% (T=4.2K) bzw.25% (T =300K) im 1. afm Maximum und 25% (T= 4.2K) bzw. 13% (T = 300K) im 2. afm Maximum erreicht wurden. Die magnetischen Eigenschaften der Schichten wurden mittels Kerrmikroskopie und Magnetisierungsmessungen charakterisiert. Die Auswirkung von Temperbehandlungen bis 200^∘C auf die Kennlinien und die Domänenstruktur wurde untersucht und eindeutige Korrelationen gefunden. Es zeigte sich, dass die Kennlinienform in Abhängigkeit vom Winkel zwischen Magnetfeld und Stromrichtung von der magnetischen Struktur abhängt. Damit kann die Linearität der Widerstands-Magnetfeld-Kennlinie durch Präparation im Magnetfeld gesteuert werden.