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DS: Dünne Schichten
DS 8: Schutzschichten
DS 8.1: Vortrag
Montag, 26. März 2001, 17:00–17:15, S 13/14
Stöchiometrische Charakterisierung von CNx-Nanoschutzschichten auf Festspeicherplatten mittels X-PEEM — •Ch. Ziethen1, R. Ohr1, F. Wegelin1, H. Hilgers2 und G. Schönhense1 — 1Johannes Gutenberg Universität, Institut für Physik, D-55099 Mainz — 2IBM Speichersysteme Deutschland GmbH, D-55131 Mainz
Moderne Festplattenspeichersysteme sind mit ihrem Aufbau aus unterschiedlichen ultradünnen Schichten (magnetische Funktionsschichten, harte Schutzschichten sowie polymere Gleitschichten) das zum gegenwärtigen Zeitpunkt wichtigste nanotechnologische Produkt. Die zukünftige Entwicklung zielt auf eine weitere Steigerung der Datenspeicherdichte auf 100 Gbit/squareinch ab. Den Abstand zwischen Schreib-/Lesekopf und magnetischer Schicht zu verringern ist ein möglicher Weg, dies zu erreichen. Neben einer niedrigeren Flughöhe des Kopfes über der Platte wird auch eine von derzeit etwa 10 nm auf 2 nm verringerte Dicke der Kohlenstoff-Schutzschicht der Festplatte angestrebt. Diese Schicht dient als Verschleiss- und Korrosionsschutzschicht. Die chemische Charakterisierung dieser Schichten mit einem Röntgenabsorptions- Spektromikroskop (X-PEEM) [1] am Speicherring BESSY II (Berlin) gibt in Kombination mit Ellipsometrie, XPS- und Ramanspektroskopie einen Einblick in den Aufbau und die Stöchiometrie der Schichten in Abhängigkeit verschiedener Prozessparameter. Dabei wurden sowohl Schichtsysteme aus laufender Produktion als auch mit unterschiedlichen Plasmareaktoren hergestellte Prototypenschichten untersucht. [1] Ch. Ziethen et al., J. Electron Spectr. Relat. Phenom. 107 (2000) 261. Gefördert vom BMBF, FKZ 13N7759