M 9: Diffusion und Punktdefekte I
Monday, March 26, 2001, 10:15–11:15, S12
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10:15 |
M 9.1 |
Fachvortrag:
Unterschiedliche Diffusionspfade für implantiertes Bor in Kupfer — •M. Füllgrabe, B. Ittermann, H.-J. Stöckmann, F. Kroll, D. Peters und H. Ackermann
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10:30 |
M 9.2 |
Fachvortrag:
Ein Schwingungsmodell für den direkten Platzwechsel von Bor in Kupfer — •Hans-Jürgen Stöckmann, Karl-Heinz Ergezinger, Martin Füllgrabe, Bernd Ittermann, Frank Kroll und Dirk Peters
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10:45 |
M 9.3 |
Fachvortrag:
Influence of Temperature Exposure on β-Phase Vanadium Distribution in Ti6Al4V — •Lutz Reissig and Uwe Glatzel
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11:00 |
M 9.4 |
Fachvortrag:
Kooperative Atomsprünge in L12-geordnetem Ni3Al — •W Püschl, H Schweiger, R Podloucky, W Wolf und W Pfeiler
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