Hamburg 2001 – wissenschaftliches Programm

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O: Oberflächenphysik

O 13: Postersitzung (Adsorption auf Oberfl
ächen, Oberfl
ächenreaktionen, Elektronische Struktur, Epitaxie und Wachstum, Halbleiteroberfl
ächen und Grenzfl
ächen, Oxide und Isolatoren)

O 13.84: Poster

Montag, 26. März 2001, 19:00–22:00, Foyer zu B

Atomar aufgelöste AFM-Untersuchungen der UHV-Bruchoberflächen von TeCl-Gläsern — •Thomas Kayser¹, Amir Ostadrahimi¹, Johannes Beck² und Klaus Wandelt¹ — ¹Institut für Physikalische Chemie, Universität Bonn, Wegelerstr. 12, D-53115 Bonn — ²Institut für Anorganische Chemie, Universität Bonn, Gerhard-Domagk-Str. 1, D-53121 Bonn

Tellur bildet mit den Halogenen eine Reihe von subvalenten Verbindungen. Durch die Komproportionierungsreaktionen von Te und TeCl₄ sind schwarze TeCl-Schmelzen herstellbar, die bei raschem Abkühlen amorph erstarren. Mit XRD-Messungen konnte allerdings gezeigt werden, dass die Proben nicht vollkommen amorph, sondern teilkristallin waren. Im Einklang hiermit gelang es bei Normalkräften ≤ 6 nN atomar aufgelöste AFM-Bilder der Bruchflächen zu erhalten, die periodische Bereiche in ungeordneter Umgebung aufwiesen. Die hieraus berechnete Paarabstandsverteilung ist mit RDF-Daten der verwandten Tellurhalogenide im Einklang. Bei höheren Normalkräften ≤ 20 nN konnte eine durch die Spitze induzierte plastische Deformation beobachtet werden, die sowohl eine Erosion (Abtragung) als auch eine Oberflächenschmelze vermuten läßt.