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O: Oberflächenphysik

O 30: Oberfl
ächenreaktionen (III)

O 30.3: Vortrag

Donnerstag, 29. März 2001, 11:00–11:15, K

In-situ Röntgenphotoemission unter Verwendung eines Molekularstrahls - Untersuchung von Adsorption und Desorption in Anwesenheit der Gasphase — •Reinhard Denecke, Martin Kinne, Caroline Whelan und Hans-Peter Steinrück — Universität Erlangen-Nürnberg, Physikalische Chemie II, Egerlandstr. 3, 91058 Erlangen, Germany

Wir stellen eine neuartige Apparatur vor, die hoch - und höchstaufgelöste Röntgenphotoelektronenspektroskopie mit einem Überschalldüsen-Molekularstrahl verbindet. Diese Kombination eröffnet neue Möglichkeiten im Bereich der in-situ Spektroskopie von Adsorptions- und Desorptionsvorgängen an Einkristalloberflächen. Besonders in Verbindung mit hochintensiver Synchrotronstrahlung können damit Informationen über Adsorptionsplätze und Intermediate von Oberflächenreaktionen gewonnen werden. Erste Testmessungen bestätigen die Spezifikationen. So können C 1s Spektren mit guter Auflösung (150 meV) innerhalb von 3 Sekunden gemessen werden, womit auch schnelle Adsorptionsprozesse und Reaktionen verfolgt werden können. Auch mit einer monochromatisierten Laborröntgenquelle können Systeme mit entsprechend großer Rumpfniveau-Verschiebung bei stationären Bedingungen untersucht werden. Der dreistufige Molekularstrahl ermöglicht Untersuchungen bei Anwesenheit der Gasphase auf der Probenoberfläche bis zu einem Druck von 10⁻⁵ mbar, bei UHV-Bedingungen in der Meßkammer. Darüber hinaus können durch Veränderung der Energie der Moleküle (bei CO von 0,03 bis 2 eV) aktivierte Adsorptionsprozesse untersucht werden. Wir zeigen erste Messungen an den Systemen CO sowie CH₄ auf Pt(111).