Hamburg 2001 – wissenschaftliches Programm

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O: Oberflächenphysik

O 40: Oxide und Isolatoren (II)

O 40.1: Vortrag

Freitag, 30. März 2001, 11:15–11:30, K

Temperaturabhängigkeit des Wachstums von NiO auf Ag(100) — •H. Goldbach, A. Kroeck und J. Wollschläger — Institut für Festkörperphysik, Universität Hannover

Das Wachstum von NiO auf Ag(100) wurde temperaturabhängig im Bereich von Raumtemperatur bis 500K untersucht. Aufgrund der Gitterfehlanpassung kommt es während des Wachstums zum Aufbau einer Verspannung innerhalb der NiO-Schicht über Versetzungen. Diese führen bei dickeren Schichten zur Bildung von Kippmosaiken. Die Untersuchung von Profilen des (00)-Reflexes der Elektonenbeugung während des Wachstums zeigt, daß die Mosaike ab 4ML aufgrund der Verspannung des Films auftreten und ihr Kippwinkel mit steigender Bedeckung abnimmt. Zu höheren Temperaturen wird die Verbreiterung der Reflexe größer. Die Ordnung der Kippmosaike wird schlechter. Oberhalb 370K kommt es zu Beginn der Epitaxie zu einer Legierungsbildung zwichen Ni und Ag. Diese führt dazu, daß das Schließen der ersten Lage verzögert ist. Bei 470K sind die Mosaikreflexe nicht mehr aufzulösen.