Hamburg 2001 – wissenschaftliches Programm

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O: Oberflächenphysik

O 9: Organische Dünnschichten und Festkörper

O 9.5: Vortrag

Montag, 26. März 2001, 17:15–17:30, B

Chemische Instabilität von Alkanthiolen auf Kupferoberflächen — •Stefan Vollmer, Gregor Witte und Christof Wöll — Lehrstuhl für Physikalische Chemie 1, Ruhr-Universität Bochum, Universitätsstr. 150, 44780 Bochum.

In dieser Studie wurden Adsorption und Ordnung selbstorganisierter Alkanthiolmonolagen auf einkristallinen Kupferoberflächen untersucht.

Nach Adsorption von Alkanthiolen bei Raumtemperatur bilden sich durch Deprotonierung hochgeordnete Thiolatmonolagen in verschiedenen Strukturen aus [1,2], die wesentlich durch die Tendenz der Schwefelatome bestimmt werden, vierfach–koordinierte Adsorptionsplätze zu besetzen. Im Fall von Cu(100) und Cu(111) führt dies zu Rekonstruktionen [3]. Bei Temperaturen oberhalb 400 K desorbieren die Moleküle dissoziativ [2], wobei die zurückbleibenden Schwefelatome zunächst ihre Adsorptionsgeometrie beibehalten. Erst ab deutlich höheren Temperaturen treten massive Schwefel–induzierte Rekonstruktionen auf. Überraschenderweise erweisen sich die Thiolatmonolagen schon bei Raumtemperatur als chemisch instabil, indem die Alkylketten partiell innerhalb einiger Minuten bis Stunden desorbieren. Dieses Verhalten wird mit den einsetzenden Schwefel–induzierten Rekonstruktionen in Verbindung gebracht [3].

[1] S. Vollmer et al., Surf. Sci. 462, 135 (2000).

[2] G. Loepp et al., Langmuir 15, 3767 (1999).

[3] S. M. Driver und D. P. Woodruff, Langmuir 16, 6693 (2000).