Hamburg 2001 – wissenschaftliches Programm

Bereiche | Tage | Auswahl | Suche | Downloads | Hilfe

SYOD: Oxidische Dünnschichten

SYOD 1: Oxidische Dünnschichten

SYOD 1.1: Hauptvortrag

Donnerstag, 29. März 2001, 14:30–15:00, J

HTSL-Dünnschichten für Anwendungen der Elektrotechnik — •B. Utz, R. Nies, W. Schilling, B. Seebacher, W. Schmidt und H.-W. Neumüller — Siemens AG, Corporate Technology, Erlangen

Auf einkristallinen Substraten epitaktisch abgeschiedene HTSL-Dünnschichten zeichnen sich durch hohe kritische Stromdichten aus. Seit diese Schichten auf Wafern bis 8" Durchmesser mit homogenen Eigenschaften verfügbar sind, werden sie z.B. für HF-Anwendungen erprobt. Durch die Entwicklung biaxial texturierter Pufferschichten können HTSL in vergleichbarer Qualität auch auf preiswerten polykristallinen Substraten hergestellt und damit auch für Anwendungen der Energietechnik eingesetzt werden, die große Mengen an preisgünstigem Supraleiter erfordern. Mit thermischer Koverdampfung hergestellte YBCO-Schichten, die sich homogen auf 10x10 cm2 großen YSZ-Keramiken mit biaxialer Pufferschicht herstellen lassen, werden z.B. zum Bau von resistiven Strombegrenzern eingesetzt. Die Beschichtung flexibler Substrate, die weltweit einen Schwerpunkt der HTSL-Materialentwicklung darstellt, könnte den Einsatzbereich von HTSL-Dünnschichten in Zukunft auch auf Kabel, Transformatoren und Motoren erweitern.