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P: Plasmaphysik

P 23: Poster: Plasmatechnologie, Plasma-Wand-Wechselwirkung, Staubige Plasmen, Plasmadiagnostik

P 23.23: Poster

Mittwoch, 20. März 2002, 17:40–18:40, HZO Foyer

Untersuchungen zur Struktur und Dynamik von CF und CF₂ in einer kapazitiven RF-Entladung in CF₄ und C₄F₈ — •A. Francis¹, S. Narishige¹, U. Czarnetzki² und H.F. Döbele¹ — ¹Institut für Experimentelle Physik, Universität Essen, 45117 Essen — ²Institut für Experimentalphysik V, Ruhr-Universität Bochum, 44780 Bochum

Die räumliche Verteilung von CF- und CF₂-Radikalen entlang der Entladungsachse einer kapazitiv gekoppelten RF-Entladung mit CF₄ und C₄F₈ in einem Parallelplattenreaktor wurde mittels laserinduzierter Fluoreszenzspektroskopie gemessen. Insbesondere wurde der Einfluß des Elektrodenmaterials untersucht. Dabei zeigt sich, dass erhebliche Unterschiede zwischen Entladungen mit Aluminium- und Edelstahlelektroden bestehen. Aus der räumlichen Verteilung lässt sich unmittelbar der Sticking-Koeffizient bzw. die Quellenstärke an den Oberflächen sowie die Verteilung der effektiven Quellen im Volumen bestimmen. Bei Pulsung der Entladung ermöglicht die zeitaufgelöste Messung im Afterglow die Bestimmung der diffusiven Verlustraten. Darüber hinaus zeigt sich, daß CF auch in erheblichem Maße durch Volumenreaktionen verloren geht.