Parts | Days | Selection | Search | Downloads | Help
Q: Quantenoptik
Q 301: Poster: Fallen, Kühlung, Teilchenoptik
Q 301.16: Poster
Wednesday, March 6, 2002, 11:00–13:00, Schloss
Atomlithographie mit dissipativen Lichtmasken — •Ralf Stützle1, Dirk Jürgens1, Jürgen Mlynek2 und Markus K. Oberthaler1 — 1Fachbereich Physik, Universität Konstanz, 78457 Konstanz — 2Humboldt-Universität zu Berlin, 10099 Berlin
Die bisher verwendete Methode der Nanostrukturierung von Oberflächen mittels Atomlithographie beruht auf der Fokussierung eines kollimierten, thermischen Atomstrahls durch das Dipolpotential einer weit verstimmten stehenden Lichtwelle. Dieses Verfahren ist prinzipiell bezüglich Strukturbreite und Untergrund limitiert. Insbesondere die Präparation des Atomstrahls beeinflusst die Güte der Fokussierung.
Längere Wechselwirkungszeiten der Atome mit der stehenden Lichtwelle erlauben neue Methoden der Atomlithographie, da genügend Energie durch spontane Emission dissipiert werden kann. Eine nahresonante blauverstimmte stehende Lichtwelle ermöglicht das Kühlen der Atome und eine verbesserte Lokalisierung in den Potentialminima.
Präsentiert werden detaillierte Untersuchungen zur geplanten experimentellen Umsetzung mittels eines Zeeman-abgebremsten Chrom-Atomstrahls. Die klassischen Monte-Carlo Simulationen lassen Strukturbreiten im Bereich von 10 nm bei einem deutlich reduzierten Chromuntergrund erwarten. Zudem ist die Methode weitgehend unabhängig von der Präparation des Atomstrahls.
Gefördert durch den SFB 513 der DFG.