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Regensburg 2002 – wissenschaftliches Programm

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CPP: Chemische Physik und Polymerphysik

CPP 18: Nanostrukturierte Materialien

CPP 18.2: Vortrag

Donnerstag, 14. März 2002, 11:20–11:40, H39

Nanostrukturierung von Selbstaggregierenden Hydroxybiphenyl Monolagen auf Si(111) Oberflächen mittels Elektronenstrahllithographie — •Alexander Küller1, Volker Stadler1, Wolfgang Geyer1, Wolfgang Eck1, Armin Gölzhäuser1, Michael Grunze1, Thomas Weimann2 und Klaus Edinger31Angewandte Physikalische Chemie, Universität Heidelberg, Im Neuenheimer Feld 253, 69120 Heidelberg — 2Physikalisch Technische Bundesanstalt — 3University of Maryland

Selbstaggregierende Monolagen (SAMs) aus aromatischen Hydroxybiphenylen wurden auf wasserstoffterminierten Si(111) Oberflächen hergestellt, mittels Photoelektronenspektroskopie und Rasterkraftmikroskopie charakterisiert und anschließend durch Elektronenbeschuß modifizert. Dabei zeigte sich, daß die SAMs vernetzen und somit als Negativresist beim naßchemischen KOH-Ätzen von Silizium eingesetzt werden können. Durch Proximity Printing mit niederenergetischen (300 eV) Elektronen und durch serielles Elektronenstrahlschreiben (2.5 keV) wurden Silizium Nanostrukturen mit lateralen Dimensionen unterhalb 40 nm hergestellt.

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