Regensburg 2002 – scientific programme
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DS: Dünne Schichten
DS 22: Multilayer II
DS 22.1: Talk
Thursday, March 14, 2002, 15:00–15:15, HS 31
Mikrostruktur und Transporteigenschaften von Ni/NiO-Vielfachschichten — •Sebastian Dreyer1, Carsten Herweg1, Jörg Hoffmann2, Christine Borchers1, Jörg Wiesmann3, Sibylle Sievers1,2 und Herbert C. Freyhardt1,2 — 1Institut für Materialphysik, Universität Göttingen, 37073 Göttingen — 2Zentrum für Funktionswerkstoffe, 37073 Göttingen — 3GKSS Forschungszentrum, Abt. WTB, 21502 Geesthacht
Die Methode des reaktiven Ionenstrahlsputterns unter variierendem Reaktivgaspartialdruck erlaubt Vielfachschichtkombinationen mit unterschiedlichen physikalischen Eigenschaften. Als Modellsystem für nichtmischende, magnetische Schichtsysteme wurden Ni/NiO-Vielfachschichten präpariert, eine Kombination aus einem leitfähigen Ferro- und einem isolierenden Antiferromagneten. Die mittels XRD und TEM untersuchten Schichtpakete weisen neben der periodischen Lagenstruktur eine charakteristische Mikrostruktur mit ausgeprägtem Säulenwachstum auf. Diese Schichtkombination zeigt komplexe Transporteigenschaften. Temperaturabhängige Widerstandsmessungen der wie hergestellten Schichtpakete zeigen zu tiefen Temperaturen einen anormalen, logarithmischen Widerstandsanstieg, der auf ein kondoähnliches Verhalten im Ni/NiO-System hindeutet. Im weiteren wurden magnetoresistive Messungen bei T = 4,2K durchgeführt. Die Austauschanisotropie infolge Kopplung der Grenzflächenspins im Ni und NiO führt zu einer ausgeprägt anisotropen Magnetwiderstandscharakteristik. Nach thermisch induziertem Zerfall der Schichtstruktur verschwindet der Anstieg im Widerstand zu tiefen Temperaturen und auch das anisotrope Magnetwiderstandsverhalten.