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Regensburg 2002 – wissenschaftliches Programm

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SYPO: Plasmaoberflächentechnik – Beschichten, Ätzen und Modifizieren

SYPO III: HV III

Montag, 11. März 2002, 15:30–16:15, HS 32

15:30 SYPO III.1 Hauptvortrag: Multischichterzeugung für die EUV-Lithographie mit Ionenstrahlen — •Thomas Chassé, Horst Neumann und Bernd Rauschenbach
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