Dresden 2003 – scientific programme

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DS: Dünne Schichten

DS 17: Ionenimplantation II

DS 17.11: Talk

Thursday, March 27, 2003, 12:45–13:00, GER/37

Kolloidale Masken zur Oberflächenstrukturierung — •Bernhard Gehl — Institut für Physik, Universität Augsburg

Kolloidkristalle sind vor allem als Ausgangsmaterial für die Erzeugung von photonischen Kristallen bekannt. Neben ihren optischen Eigenschaften zeichnet sie aber der Umstand aus, dass sie regelmäßige periodische Strukturen im Nanometerbereich darstellen, die sich als Masken für Strukturierungsverfahren nutzen lassen. Unser Ziel ist es, solche Masken zu erzeugen und ihre Nutzbarkeit zu untersuchen.

Aus kolloidalen Suspensionen monodisperser Silica-Partikel von 100 nm Durchmesser wurden Schichten von Kolloidkristallen hergestellt, wobei Si/SiO2-Substraten dienten, die mit einem abgewandelten RCA/SC-2 Verfahren gereinigt wurden. Auf die Substrate wurde Suspension aufgebracht und Substratneigung, Substrattemperatur und Luftfeuchtigkeit so optimiert, dass möglichst große monolagige Flächen entstehen. Die dabei entstandenen zweidimensionalen Kugelanordnungen wurden danach mit dem Rasterelektronenmikroskop untersucht und als Masken für Ionenimplantation und zur Bedampfung genutzt, um egelmäßige Strukturen im Nanometer-Maßstab zu erzeugen. Erste Implantationsexperimente werden vorgestellt.