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DS: Dünne Schichten

DS 3: „Dünnschichtanalytik“ III (Beitr
äge)

DS 3.3: Talk

Monday, March 24, 2003, 16:20–16:35, GER/37

Es bleibt spannend: Spannungsverteilung und Struktur nanostruktuierter Ag/Ru(0001) Grenzflächen — •Hubert Zajonz¹ und Doon Gibbs² — ¹Max-Planck-Institut für Metallforschung, Stuttgart — ²Brookhaven National Laboratory, Upton, New York, USA

Die Spannungsverteilung in dünnen Filmen ist als eine der Schlüsselgrößen identifiziert worden, welche die Grenzflächenstruktur kontrolliert und dabei die resultierenden elektronischen Eigenschaften des Films wesentlich beeinflusst. Im Hinblick auf das Verständnis und die Kontrolle der Eigenschaften bimetallischer Katalysatoren wird daher eine genaue Kenntnis der mikroskopischen Spannungsverteilung an Grenzflächen angestrebt. Wir präsentieren eine Röntgendiffraktionsstudie der Struktur und Spannungsverteilung einer Monolage Ag auf Ru(0001), die eine komplexe (20x20)-Rekonstruktion bei 690 K ausbildet. Die Anwendung von Very-Fast-Simulated-Annealing-Algorithmen zur Analyse der Röntgenintensitäten führt zu einem Model, in dem der Ag-Film ein 2D-moduliertes hexagonales Netzwerk fehlgeordneter Bereiche ausbildet. Diese werden durch kleinere Domänen idealer hcp - und fehlerhafter fcc Stapelfolge mit dem Substrat voneinander getrennt. Die Ableitung der lateralen Spannungsverteilung aus diesem Model für zu einer streifenartigen Struktur mit einer Periodizität von 4.5 nm, welche Ähnlichkeit mit der des Systems Cu/Ru(0001) aufweist.