Dresden 2003 – scientific programme
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DS: Dünne Schichten
DS 5: Verfahren zur Schichtherstellung II
Monday, March 24, 2003, 10:15–11:00, GER/38
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10:15 | DS 5.1 | Low-temperature Si epitaxy by electron-cyclotron resonance chemical vapor deposition — •Björn Rau, Burkhardt Selle, Ina Sieber, Stefan Gall, and Walther Fuhs |
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10:30 | DS 5.2 | Thin polycrystalline silicon layers formed by aluminium-induced crystallization — •Jens Schneider, Stefan Gall, Martin Muske und Walther Fuhs |
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10:45 | DS 5.3 | Unkonventionelle Phasenbildung durch thermisch stimulierte Festkörperreaktionen in Nano-Schichtsystemen — •Dirk C. Meyer, Alexander A. Levin und Peter Paufler |