Kiel 2004 – wissenschaftliches Programm

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P: Plasmaphysik

P 10: Postersitzung: Niedertemperaturplasmen Plasmatechnologie II, Staubige Plasmen II, Magnetischer Einschluss II

P 10.11: Poster

Dienstag, 9. März 2004, 17:45–19:30, Foyer

Anwachsprozesse von Kupfernanopartikel im Plasma und in Flüssigkeiten — •Gerd Gebauer, Thomas Galka und Jörg Winter — Ruhr-Universität Bochum, Institut für Experimentalphysik II

Nanopartikel sind insbesondere für die moderne Materialtechnologie von zentraler Bedeutung. Hierbei ist es besonders wichtig die Anwachsprozesse von Nanopartikeln kleiner als 20nm insitu zu messen und deren Materialeigenschaften während des Anwachsprozesses gezielt zu beeinflussen.

Für die Beobachtung dieser Prozesse wird die Mie-Ellipsometrie verwendet [1][2][3]. Bei den bisherigen Arbeiten [3][4][5] wurden Partikel ab einer Grösse von ca. 20nm und deren dielektrischen Materialeigenschaften insitu gemessen. In dieser Arbeit wird insbesondere über Vergleichsmessungen an Anwachsprozesse in Flüssigkeiten aufgezeigt, dass diese Messtechnik auch unterhalb einer Partikelgrösse von 20nm geeignet ist die Partikelgrösse und die dielektrischen Materialeigenschaften zu bestimmen und dass in diesem Grössenbereich die Messwerte von den Erwartungen der Mie-Theorie abweichen und auf der Grundlage einer Molekularen-Streutheorie erklärt werden müssen.

[1]Y.Hayashi, Japan Journal of Applied Physics, 33, L476(1994).

[2]G.Swinkels,Proefschrift, Technische Universiteit Eindhoven, (1999).

[3]G.Gebauer, Dissertation, Ruhr-Universität Bochum, (2001).

[4]T.Galka, Diplomarbeit, Ruhr-Universität Bochum, (2002).

[5]G.Gebauer,T.Galka et.all, 29th EPS Conference on Plasma Physics

and Controlled Fusion, Montreux, (2002).