Kiel 2004 – wissenschaftliches Programm

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P: Plasmaphysik

P V: HV V

P V.1: Hauptvortrag

Dienstag, 9. März 2004, 10:30–11:00, H\"orsaal H

Strukturbildung und Schichtdeposition in Reaktiven Plasmen — •Achim von Keudell — Ruhr-Universität Bochum, 44780 Bochum

Reaktive Plasmen sind ein einzigartiges Werkzeug um neuartige Materialien zu synthetisieren oder Nano-Strukturen an einer Festkörper Oberfläche zu realisieren. Die Entwicklung dieser Plasma-Prozesse erfolgt in der Regel empirisch, da die maßgeblichen Elementarprozesse im Plasmavolumen und an den umgebenden Oberflächen nur ungenügend bekannt sind. Allerdings ist es in den letzten Jahren gelungen einige dieser Prozesse quantitativ zu untersuchen und belastbare Modelle zu deren Beschreibung zu entwickeln. Auf dieser Basis können jetzt Plasma-Prozesse gezielter gesteuert werden. Als Beispiele wird die Plasmachemie gepulster Plasmen, die chemische Zerstäubung, die plasma-induzierte Oberflächenaktivierung und die Cluster-Bildung diskutiert. All diese Mechanismen haben weitreichende Bedeutung in der Plasmatechnik aber sind auch wichtig für den Randbereich heiser Fusionsplasmen.