Regensburg 2004 – wissenschaftliches Programm

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O: Oberflächenphysik

O 28: Postersitzung (Elektronische Struktur, Grenzfläche fest-flüssig, Halbleiteroberflächen und -grenzflächen, Magnetismus und Symposium SYXM, Methodisches, Nanostrukturen, Oberflächenreaktionen, Teilchen und Cluster, Zeitaufgelöste Spektroskopie)

O 28.42: Poster

Mittwoch, 10. März 2004, 16:00–19:00, Bereich C

Kombination mizellarer und lithographischer Techniken – ein unkonventioneller Strukturierungsansatz — •Oliver Dubbers¹, S. Fricker¹, A. Klimmer¹, H.-G. Boyen¹, A. Plettl¹, P. Ziemann¹, M. Ott² und M. Möller² — ¹Abt. Festkörperphysik, Universität Ulm, D-89069 Ulm — ²Abt. Organische Chemie 3, Universität Ulm, D-89069 Ulm

Inverse P2VP-PS-Mizellen in Lösung können mit verschiedenen Metallsalzen beladen werden. Selbstorganisationsprozesse führen bei Abscheidung auf glatten Oberflächen zu einer hexagonalen Anordnung. Nach Entfernung des Polymers in einem H₂- oder O₂-Plasma erhält man schließlich Nanoteilchen, deren Größe und Abstand durch die Polymerkettenlängen bestimmt werden. Die Teilchen lassen sich auch noch nachträglich in einer HAuCl₄/NH₂OH-Lösung elektrodenfrei weiter vergrößern. Dieser mizellare Ansatz läßt sich mit lithographischen Methoden kombinieren. In lithographisch definierte Fenster von Lack- oder Metallmasken lassen sich Mizellen einfüllen und anschließend veraschen. Beim Lift-off der Maske werden die darauf liegenden Teilchen mit entfernt, so dass sich nur noch die Teilchen auf der Oberfläche befinden, die direkt auf dem Substrat aufgebracht wurden. Derart deponierte Nanoteilchen lassen sich beim anisotropen Plasmaätzen als Maske verwenden, um zum Beispiel Nanosäulen in Silizium und Titan herzustellen.