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P: Plasmaphysik

P 11: Niedertemperaturplasmen / Plasmatechnologie 5

P 11.6: Vortrag

Samstag, 5. März 2005, 12:30–12:45, HU 3038

Untersuchungen zur Plasma-Oberflächen-Wechselwirkung beim Ätzen von Si mit einem Ar/SF₆/O₂-Plasmajet — •Thomas Arnold und Axel Schindler — Leibniz-Institut für Oberflächenmodifizierung e.V., Leipzig

Ein mikrowellenangeregter reaktiver Ar/SF₆/O₂-Plasmajet im Druckbereich von p=50 mbar wird mit massenspektrometrischen Methoden charakterisiert. Auftrittspotential-Massenspektrometrie und ortsaufgelöste Messungen liefern Informationen über die Struktur des Plasmajets. Zweidimensionale Simulationen zur Strömungsdynamik tragen zum Verständnis des Teilchentransports im Plasmajet bei und unterstützen die Interpretation der Meßergebnisse. Es werden die Einflüsse der Prozeßparameter Leistung, Druck sowie SF₆ und O₂-Gasflußraten auf die Entladungsgeometrie und auf die Bildung von atomarem Fluor analysiert. Untersuchungen zur plasmachemischen Wechselwirkung des Jets mit einer Si-Oberfläche zeigen, daß durch die Anwesenheit von Si die oberflächennahe Plasmachemie stark verändert wird. Es wird der Zusammenhang zwischen im Plasma gebildeten freien Fluorradikalen und der Ätzrate aufgeklärt und die lokale Oberflächenentwicklung sowie Strukturbildung in Abhängigkeit von verschiedenen Prozeßbedingungen diskutiert.