Berlin 2005 – wissenschaftliches Programm

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P: Plasmaphysik

P 21: Poster: Plasma-Wand Wechselwirkung 2, Theorie 2, Dichte Plasmen 1, Schwerionen- und lasererzeugte Plasmen 2

P 21.3: Poster

Montag, 7. März 2005, 16:30–18:30, Poster HU

In situ Schichtdickenmessung von a-C:H-Schichten — •Gordon Krenz, Werner Bohmeyer und Gerd Fussmann — Institut für Physik Humboldt Universität zu Berlin

Das Verständnis der Wechselwirkungsprozesse von Kohlenwasserstoffen in Plasmen ist von besonderem Interesse beim Einsatz von Kohlenstoff-Divertoren in Fusionsanlagen. Die Kohlenwasserstoffe interagieren mit den Wänden der Anlage und bilden sogenannte a-C:H-Schichten. Die Untersuchung der Deposition und Erosion dieser a-C:H-Schichten erfordert eine in situ-Schichtdickenmessung, um dem dynamischen Charakter dieser Prozesse verfolgen zu können. Als besonders geeignetes Messverfahren hat sich dabei eine vereinfachte Variante der Colorimetrie herausgestellt. Dabei wird das Reflektionsspektrum eines Zwei-Schichtsystems (Kollektor-Film) bei Bestrahlung mit unpolarisiertem weissen Lichts untersucht. Der physikalische Hintergrund dieser Diagnostik beruht auf den Fresnellschen Formeln, mit deren Hilfe sich die Reflektivität des Schichtsystems berechnen lässt. Durch Vergleich zwischen theoretisch bestimmter und gemessener Reflektivität des eingestrahlten Lichts lässt sich die Schichtdicke ermitteln. Bei der Analyse von a-C:H-Schichten, die im Plasmagenerator PSI-2 des Institutes für Plasmaphysik