Berlin 2005 – wissenschaftliches Programm

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P: Plasmaphysik

P 23: Poster: Magnetischer Einschluß 3, Staubige Plasmen 2, Astrophysikalische Plasmen 1

P 23.23: Poster

Dienstag, 8. März 2005, 16:30–18:30, Poster HU

Abscheidung von siliziumhaltigen Schichten auf Mikroteilchen in dielektrisch behinderten Plasmen unter Atmosphärendruck — •Marcel Hähnel, Volker Brüser und Holger Kersten — Friedrich-Ludwig-Jahn Straße 19, 17489 Greifswald

Die vorliegende Studie befaßt sich mit der Abscheidung von homogenen und geschlossenen SiO2 Schichten auf Mikroteilchen. Diese Schichten wurden aus Hexamethyldisiloxan (HMDSO) und Tetraethylorthosilicat (TEOS) unter Bemischung verschiedener Gaszusammensetzungen deponiert. Die Untersuchungen zur Abscheidung solcher SiO2-haltigen Schichten erfolgte zum Beispiel auf Polymeren, Metallen und keramischen Materialien in Form von sphärischen und unförmigen Partikel, in der Größenordnung von 10 bis 250 Mikrometer. Für die Beschichtung wurden verschiedene dielektrisch behinderte Atmosphärendruckplasmen verwendet. Hierdurch war die Möglichkeit gegeben Untersuchungen in Abhängigkeit von der Entladungsform, wie zum Beispiel Volumen- und Oberflächenentladung, zum machen. Die Bewertung der Schichten erfolgte durch Oberflächenanalytik (FTIR, Rem), sowie makroskopischer Tests zur Bestimmung der physikalisch-chemischen Eigenschaften.