Berlin 2005 – wissenschaftliches Programm
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Q: Quantenoptik und Photonik
Q 20: Poster Fallen & Kühlung
Q 20.1: Poster
Montag, 7. März 2005, 11:00–12:30, Poster HU
Magnetische Mikrofallen mit zweilagigen Leiterbahnstrukturen — •Michael Ingrisch1, Philipp Treutlein1, Tilo Steinmetz1, Theodor W. Hänsch1 und Jakob Reichel1,2 — 1Max-Planck-Institut für Quantenoptik und Sektion Physik der Ludwig-Maximilians-Universität München, Germany — 2Laboratoire Kastler Brossel de l’ENS, Paris, France
Mit magnetischen Mikrofallen für neutrale Atome, sog. Atomchips, eröffnen sich neue Möglichkeiten der Quanteninformationsverarbeitung und interferometrischen Präzisionsmessung. So ist es beispielsweise vorstellbar, mit einer großen Zahl von atomaren Qubits in Mikrofallen auf dem Chip parallel Gatteroperationen durchzuführen. Für interferometrische Messungen können maßgeschneiderte Potentiale zur kohärenten Aufspaltung von Bose-Einstein Kondensaten erzeugt werden.
Die Realisierung der für diese Anwendungen benötigten komplexen Potentiale wird durch mikroskopischen Leiterbahnen in mehreren voneinander isolierten Schichten auf dem Chip möglich. Die üblichen lithographischen Verfahren zur Herstellung von mikrometergroßen Strukturen sind hier jedoch nur eingeschränkt anwendbar, da die zur Erzeugung der Potentiale notwendigen Ströme vergleichsweise hoch sind und daher relativ dicke Leiterbahnen erfordern. Außerdem werden hohe Anforderungen an die isolierende Zwischenschicht gestellt: Sie soll einerseits möglichst dünn sein, aber andererseits gut planarisieren, um die zweite Leiterbahnebene herstellen zu können.
Wir stellen ein Verfahren vor, mit dem wir zweilagige Atomchips mit den gewünschten Strukturen herstellen können.