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P: Plasmaphysik
P 15: Diagnostik 2; Niedertemperaturplasmen / Plasmatechnologie 5; Plasma-Wand Wechselwirkung 1
P 15.13: Poster
Tuesday, March 28, 2006, 17:00–19:00, Flure
Optische Emission von atomarem Sauerstoff vor der gespeisten Elektrode einer kapazitiv gekoppelten RF-Entladung — •Kristian Dittmann und Jürgen Meichsner — Institut für Physik, Universität Greifswald, Domstr. 10a, 17489 Greifswald
Es wurde die optische Emission einer kapazitiv gekoppelten Hochfrequenzentladung (13,56 MHz) in Sauerstoff im Bereich der RF-Randschicht und dem elektrodennahen Plasma untersucht. Die zeitlich gemittelte Emission des atomaren Sauerstoff bei 844 (3p3P → 3s3S) und 777 nm (3p5P → 3s5S) wurde hinsichtlich ihrer axialen Abhängigkeit untersucht. Weiterhin erfolgten orts-zeitaufgelöste Messungen der Emissionsintensitäten für die RF-Phase (74 ns) und für eine gepulste RF-Entladung (ms-Bereich). Die axial ortsaufgelösten Messungen der Emissionsintensitäten zeigen, dass die Anregung hauptsächlich in zwei Bereichen erfolgt, in einem räumlich schmalen Bereich unmittelbar vor der RF-Elektrode und im Übergangsbereich Plasmagrenzschicht/Bulkplasma. Die zugrunde liegenden Anregungsmechanismen beruhen auf Schwerteilchenstöße vor der RF-Elektrode und Elektronenstöße infolge der Plasmagrenzschichtdynamik.