Bereiche | Tage | Auswahl | Suche | Downloads | Hilfe

P: Plasmaphysik

P 15: Diagnostik 2; Niedertemperaturplasmen / Plasmatechnologie 5; Plasma-Wand Wechselwirkung 1

P 15.32: Poster

Dienstag, 28. März 2006, 17:00–19:00, Flure

Langmuir-Sonden Messungen am Niederdruckplasma zur Behandlung von medizinischen Implantaten — •Helmut Halfmann und Peter Awakowicz — Ruhr-Universität Bochum, Lehrstuhl für Allgemeine Elektrotechnik und Plasmatechnik, Universitätsstrasse 150, 44780 Bochum

In einem doppelt induktiv gekoppelten Niederdruckplasma (DICP) werden verschiedene Materialien aus dem Bereich der Implantologie behandelt. Dies führt zur Sterilisation und Modifikation der Oberfläche. Zur Untersuchung der unterschiedlichen Wirkmechanismen werden verschiedene Diagnostiken (Langmuir-Sonden Messung, optische Emissionspektroskopie, Energie-Massen-Spektroskopie) angewendet. Die Messung und Auswertung der Sondenkennlinie nach Langmuir liefert ortsabhängige Informationen zur Charakteristik der Entladung bei unterschiedlichen Kombinationen von Druck, Gasgemisch, Gasflüssen und eingekoppelter Leistung. Für die Anwendung wichtig ist die Erkenntnis, dass sich die Parameter der Entladung im ausgedehnten Teilvolumen des Reaktors nur gering ändern. Daraus folgt, dass auch größere Implantate behandelt werden können, ohne Qualitätsverluste hinnehmen zu müssen.