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P: Plasmaphysik

P 28: Astrophysikalische Plasmen; Dichte Plasmen 1; Schwerionen- und lasererzeugte Plasmen 2; Staubige Plasmen 4; Theorie 1

P 28.14: Poster

Wednesday, March 29, 2006, 17:30–19:00, Flure

Entwicklung und Anwendung einer kompakten laserbasierten breitbandigen EUV-Plasmaquelle — •Lothar Koch und Bernd Wellegehausen — Institut für Quantenoptik, Universität Hannover

Die Halbleiterindustrie beabsichtigt, im nächsten Jahrzehnt EUV-Strahlung von laserinduzierten oder Entladungs-Plasmen, besonders bei 13,5 nm, für die Lithographie zu verwenden. Zur Zeit wird intensiv versucht, die dafür notwendigen Strahlungsflüsse zu erreichen und die nötigen optischen Komponenten zu entwickeln und zu verbessern.

Für die Vermessung solcher optischen Komponenten werden einfach anzuwendende Quellen und Spektrometer gebraucht. Wir berichten von der Entwicklung einer kompakten breitbandigen (10 - 50 nm) Laserplasma-EUV-Quelle, welche ein zylindrisches, galvanisch goldbeschichtetes Target mit 80 Stunden Standzeit verwendet.

Ein Problem, speziell bei Festkörperplasmen, ist die Entstehung von Debris, welches optische Komponenten in der Umgebung des Plasmas zerstören kann. Untersuchungen zu diesem Effekt, speziell zur Auswirkung von Golddebris auf einem goldbeschichteten Spiegel, und zur Debrisreduzierung werden vorgestellt, ebenso wie erste Anwendungen der Quelle, z.B. zur Charakterisierung von optischen Komponenten und in der Festkörperspektroskopie.