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P: Plasmaphysik

P 4: Diagnostik 1; Niedertemperaturplasmen / Plasmatechnologie 2; Magnetischer Einschluß 2

P 4.13: Poster

Monday, March 27, 2006, 17:00–19:00, Flure

Modellbasierte Regelung einer kapazitiv gekoppelten HF-Entladung — •Dennis Ziegler, Thomas Mussenbrock und Ralf Peter Brinkmann — Lehrstuhl für Theoretische Elektrotechnik, Center for Plasma Science and Technology, Ruhr-Universität Bochum, 44780 Bochum

Ständig steigende Anforderungen an die Produkte der Halbleiterindustrie erfordern in zunehmendem Maße komplexere und gleichzeitig immer genauer arbeitende, plasmabasierte Fertigungsverfahren. Um die Effizienz verfügbarer und zukünftig entwickelter Plasmaprozesse zu optimieren, müssen einfach zu implementierende Steuerungs- und Regelungskonzepte entwickelt werden. Die Zielsetzung dieses Beitrags besteht darin, ein modellbasiertes Regelungskonzept für ein kapazitiv gekoppeltes Niedertemperaturplasma vorzustellen. Unter Ausnutzung des Effekts der selbsterregten Elektronenresonanz, können gemessene HF-Wandströme auf ein nulldimensionales, globales Plasmamodell abgebildet werden, so dass bestimmte Plasmaparameter, wie die räumlich gemittelte Plasmadichte und die effektive Stoßfrequenz (Elektron-Neutralteilchen-Stöße) für die Regelung als bekannt angenommen werden können. Darauf aufbauend kann mittels bestimmter globaler Modellansätze das prinzipielle Verhalten eines Reglers beschrieben werden. Exemplarisch wird dabei auf die Regelung der Plasmadichte mittels PID-Regler eingegangen.