Dresden 2006 – wissenschaftliches Programm

Bereiche | Tage | Auswahl | Suche | Downloads | Hilfe

DS: Dünne Schichten

DS 21: Laser and plasma processes

DS 21.2: Vortrag

Donnerstag, 30. März 2006, 16:45–17:00, GER 37

Ultrakurzpuls-Laserdeposition von Cr-Sc-Multilagenschichten — •Frank Ulmer and Thomas Höche — Leibniz-Institut für Oberflächenmodifizierung e.V.,

Multilagenspiegel sind für die Herstellung effizienter Röntgenspiegel von großem industriellen Interesse. Je nach Anwendung reichen die Periodenlängen von einigen Nanometern (etwa im Bereich der EUV-Lithographie mit 13,4 nm Wellenlänge) bis hin zu wenigen Nanometern (im Bereich des sogenannten Wasserfensters, in dem die Absorption des Wassers sehr gering ist, mit Röntgenwellenlängen von ca. 2 - 4 nm). Für die Abscheidung qualitativ hochwertiger, ultradünner Schichten mit alternierenden Chrom- und Scandiumlagen kommt, neben etablierten Verfahren, die Laserdeposition mit ultrakurzen Pulsen in Betracht. In einer dedizierten Ultrahochvakuumanlage wurde ein Femtosekundenlaser (Pulslänge: 130 fs) für die Ablation genutzt und es wurden drei Verfahren zu Reduktion von Partikulaten, welche im Ablationsplasma durch Kondensation entstehen, untersucht. Es konnte gezeigt werden, dass sowohl der Einsatz elektrischer und magnetischer Felder als auch die Streuung an einem Hintergrundgas (Argon) genutzt werden können, um weitgehend partikulatfreie Schichten zu erzeugen. Die abgeschiedenen Schichten wurden mittels Rasterelektronenmikroskopie, Sekundärionenmassenspektrometrie sowie Transmissionselektronenmikroskopie an Querschnittspräparaten eingehend charakterisiert.