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K: Fachverband Kurzzeitphysik

K 4: VUV - EUV Lichtquellen und deren Anwendungen

K 4.3: Invited Talk

Tuesday, March 11, 2008, 15:00–15:30, 2D

Gasentladungsplasmen als Quelle kurzwelliger Strahlung - Neue Werkzeuge in der Nanotechnologie — •Klaus Bergmann — Fraunhofer Institut für Lasertechnik, Steinbachstr. 15, 52074 Aachen

Die Analyse und Strukturerzeugung auf der Nanometerskala mittels kurzwelligen Lichtes gewinnt zunehmend an Bedeutung in verschiedenen Disziplinen wie der Halbleiterindustrie, den Lebens- und Materialwissenschaften. Als mögliche Strahlungsquellen bieten die Gasentladungsplasmen eine kompakte und kostengünstige Lösung. Ihr Prinzip ist schon lange bekannt, technische Aspekte hinsichtlich Standzeit, Lichtleistung und der Integration in ein Gesamtsystem sind allerdings erst in den letzten Jahren entscheidend verbessert worden, so dass heute solche Quellen im kommerziellen Einsatz sind. Im Vortrag wird auf den Stand der Technik im Allgemeinen eingegangen. An speziellen Beispielen von Quellen für die EUV-Lithografie bei 13.5 nm und der Röntgenmikroskopie (2.3 - 4.4 nm) werden der aktuelle Stand der Entwicklung und noch weiter zu lösende, physikalische Fragen erläutert. Im Ausblick werden mögliche zukünftige Anwendungen auf Basis dieser kompakten Strahlungsquellen skizziert.