Stuttgart 2012 – wissenschaftliches Programm

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P: Fachverband Plasmaphysik

P 5: Niedertemperaturplasmen

P 5.1: Vortrag

Montag, 12. März 2012, 14:00–14:15, V57.03

Multifrequenz Plasmen als neuartige Sputterquelle — •Stefan Bienholz und Peter Awakowicz — Ruhr-Universität Bochum - AEPT, Bochum, Germany

Kapazitive gekoppelte Plasmen sind seit vielen Jahren fester Bestandteil der Plasmabeschichtungstechnologie. Für industrielle PVD Prozesse werden heutzutage meist DC-Magnetrons verwendet, die sich durch eine besonders hohe Sputterrate auszeichnen, jedoch nicht die Möglichkeit bieten die Ionen Energie Verteilungsfunktion und den Ionenfluss unabhängig von einander zu kontrollieren. Multifrequenz CCPs (MFCCP) hingegen bieten die Möglichkeit über Spannungsamplitude und Phaselage mehrerer Frequenzen diese Einschränkung in der Prozesskontrolle aufzuheben.

Die Autoren danken der Deutsche Forschungsgemeinschaft für die Förderung im Rahmen des SFB-TR87 und der Ruhr University Research School.