Stuttgart 2012 – wissenschaftliches Programm

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SYPD: Symposium Plasma Deposition von funktionellen Schichten

SYPD 1: Optische Beschichtungsverfahren

SYPD 1.4: Hauptvortrag

Donnerstag, 15. März 2012, 11:50–12:20, V57.03

Plasma unterstützte Prozesse zur Herstellung anspruchsvoller Interferenzfilter — •Harro Hagedorn, Walter Lehnert, Jürgen Pistner, Holger Reus, Michael Scherer und Alfons Zöller — Siemensstrasse 88, 63755 Alzenau

Plasma unterstütztes reaktives Magnetronsputtern (PARMS) ermöglicht die Herstellung von verlustarmen Interferenzschichten über einen breiten Spektralbereich vom VUV bis ins NIR durch den Einsatz verschiedener Oxide als Beschichtungsmaterialien. Unterschiedliche Kathodendesigns erlauben es je nach Substratgröße und Anwendungsfall optimale Beschichtungsvoraussetzungen zu schaffen. Herausforderungen sind hohe Schichtdickengleichmäßigkeit über Substratgrößen bis zu 200mm, niedrige Defektdichten und geringer Schichtstress über die gesamte Lebensdauer des Targets. Mit Hilfe des direkten Monitorings kann auf dem zu beschichtenden Substrat die optische Dicke der wachsenden Filme sehr präzise bei Wellenlängen zwischen 200 und 1700nm kontrolliert werden. Damit können auch sehr komplizierte Schichtsysteme präzise abgeschieden werden. Plasma Ionen unterstütztes Aufdampfen (PIAD) ermöglicht, bei gleiche optischer Prozesskontrolle, die Herstellung von Interferenzfiltern in Aufdampfanlagen mit größeren Beschichtungsflächen. Zum Einsatz kommen je nach Anwendungsfall und Anlagengröße verschiedene Plasmaquellen (APS, LION), die in Verbindung mit oxidischen Beschichtungsmaterialien ähnlich gute Schichteigenschaften wie beim Sputtern erzeugen. Ausgewählte Beispiele von Interferenzfiltern, die mit den unterschiedlichen Techniken abgeschieden wurden, werden vorgestellt.