Stuttgart 2012 – wissenschaftliches Programm
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SYPD: Symposium Plasma Deposition von funktionellen Schichten
SYPD 1: Optische Beschichtungsverfahren
SYPD 1.5: Vortrag
Donnerstag, 15. März 2012, 12:20–12:40, V57.03
Photokatalytisch wirksame dünne Schichten mit hoher optischer Qualität hergestellt mit ionengestützen Verfahren — •Redouan Boughaled1, Henrik Ehlers1, Detlev Ristau1 und Michael Wark2 — 1Laser Zentrum Hannover, Hollerithallee 8, 30419, Hannover, Germany — 2Ruhr-Universität Bochum, 44801 Bochum, Germany
Die Herstellung von selbstreinigenden optischen Oberflächen steht gegenwärtig im Fokus von Forschung und Industrie. Ziel der vorgestellten Forschungsarbeiten ist es, in transparenten multifunktionellen Schichten eine stark ausgeprägte photokatalytische Aktivität mit einer hohen optischen Qualität zu kombinieren. Der Schwerpunkt liegt auf der Verwendung von PVD-Verfahren (Physical Vapor Deposition) zur Herstellung dünner Schichten und umfasst sowohl die ionstrahlgestützte Deposition (Ion Assisted Deposition, IAD) als auch konventionelle thermische Verdampfungsmethoden. Zu diesem Zweck wurden die Plasmaquelle Leybold APSpro sowie die Ionenquelle Denton CC-105 eingesetzt. Es erfolgte eine Optimierung der Betriebsparameter, die wesentlich für die Herstellung von transparenten photokatalytischen Titandioxidschichten sind. Es wurde ein Vergleich der photonischen Effizienz der TiO2-Beschichtungen mittels Methylenblauabbau durchgeführt. Die Ergebnisse zeigen, dass TiO2-Schichten aus dem CC-105 IAD-Prozess die größte Photoaktivität aufweisen und zudem ein superhydrophiler Effekt messbar ist. Weiterhin werden Ergebnisse bezüglich der Mikrostruktur von dünnen Anatas- und Rutilschichten präsentiert