Jena 2013 – wissenschaftliches Programm

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P: Fachverband Plasmaphysik

P 4: Plasmatechnologie I

Montag, 25. Februar 2013, 16:30–18:45, HS 2

	16:30	P 4.1	Hauptvortrag: An efficient procedure to identify and quantify new molecules for insulating gas mixtures — •Christian M. Franck, Dominik A. Dahl, and Mohamed Rabie
	17:00	P 4.2	Improving the Electronic Transport and Structural Properties of Magnetron Sputtered ZnO:Al and ZnMgO:Al Films by Reducing the Particle Energy — •André Bikowski and Klaus Ellmer
	17:15	P 4.3	Untersuchung der Veränderung eines Strukturproteins der Haut durch Plasmabehandlung — •Sabrina Baldus, Meike Mischo, Martina Havenith und Peter Awakowicz
	17:30	P 4.4	The effect of the driving frequencies on the Electrical Asymmetry Effect in dual-frequency capacitive radio frequency plasmas — •Julian Schulze, Ihor Korolov, Uwe Carnetzki, and Zoltan Donko
	17:45	P 4.5	Scaling parameter in plasma-enhanced CVD of SiO2 thin films in atmospheric pressure dielectric barrier discharges — •S. Welzel, S.A. Starostin, H. de Vries, M.C.M. van de Sanden, and R. Engeln
	18:00	P 4.6	Kombinationssensor zur Charakterisierung von Beschichtungsplasmen — •Klaus Ellmer, Thomas Welzel, Karsten Harbauer und Max Kellermeier
	18:15	P 4.7	Charakterisierung eines großflächigen, kapazitiv gekoppelten Mehrfrequenzplasmas (MFCCP) für keramische PVD-Beschichtungen — •Stefan Bienholz, Nikita Bibinov, Dario Grochla, Denis Eremin, Alfred Ludwig, Thomas Mussenbrock und Peter Awakowicz
	18:30	P 4.8	Massenspektrometrische Untersuchungen an Aluminium-Triisopropoxid-haltigen Plasmen — •Maik Fröhlich, Stefan Niemietz und Holger Kersten