Jena 2013 – wissenschaftliches Programm

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SYOS: Symposium Plasma und Optische Schichten

SYOS 1: Plasma und Optische Technologien I

SYOS 1.4: Hauptvortrag

Dienstag, 26. Februar 2013, 12:20–12:50, HS 2

Untersuchungen an PIAD Schichten — •Olaf Stenzel¹, Steffen Wilbrandt¹, Dieter Gäbler¹, Norbert Kaiser¹, Jens Harhausen², Rüdiger Foest² und Andreas Ohl² — ¹Fraunhofer IOF, Jena, Deutschland — ²INP Greifswald e.V., Deutschland

Mittels der APS-Quelle plasma-ionengestützt abgeschiedene oxidische optische Schichten zeichnen sich durch hohe und driftfreie Brechzahlen aus, die traditionell über die sogenannte BIAS-Spannung eingestellt werden. Diese Potentialdifferenz zwischen Anode und Masse der erdfreien DC-Plasmaquelle dient als grobes Maß für die Ionenenergie am Substrat. Verbleibende prozessbedingte Grenzen in der Reproduzierbarkeit der Schichtbrechzahlen können sich aber bei bestimmten optischen Spezifikationen (so etwa Breitbandentspiegelungen) störend auswirken, auch wenn die optische Schichtdicke durch ausgefeilte Monitorierungsverfahren reproduzierbar einstellbar ist. In diesem Zusammenhang wurde im Rahmen des PluTO-Projekts ein alternatives Regelungskonzept für die PIAD-Beschichtung entwickelt, welches in mehreren Beschichtungsserien und unterschiedlichen Reaktoren erprobt wurde. Die Ergebnisse der Schichtanalytik demonstrieren, dass die Brechzahlreproduzierbarkeit beispielsweise bei der Titandioxidbeschichtung gegenüber der traditionellen BIAS-Regelung deutlich verbessert ist.