Jena 2013 – wissenschaftliches Programm

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SYOS: Symposium Plasma und Optische Schichten

SYOS 2: Plasma und Optische Technologien II

SYOS 2.2: Hauptvortrag

Dienstag, 26. Februar 2013, 14:30–15:00, HS 2

Charakterisierung beschichtender Plasmen — •Peter Awakowicz — Ruhr-Universität Bochum, Bochum

Plasmen zur Abscheidung dünner Schichten werden mittlerweile in vielen Branchen verwendet. Neben der Halbleitertechnologie sind sicherlich die optischen Technologien aber auch Lebensmittel-Verpackungstechnik sowie die Werkzeugtechnik zu nennen.

Im Vortrag sollen grundsätzliche Wege der Charaktierisierung dieser Plasmen aufgezeigt werden, um so wesentliche Parameter wie die Ionenflussdichte oder die Ionenenergieverteilung auf dem Substrat aber auch die Wirkung eines angelegten Substratbias mit den Beschichtungsergebnissen korrelieren zu können.

Am Beispiel verschiedener Plasmabeschichtungsprozesse soll die quantitative optische Emissionsspektroskopie in Verbindung mit Messungen einer Langmuirsonde und einer beschichtungsunabhängigen Multipolresonanzsonde verglichen werden mit quantitativen Resultaten der Schichtabscheidung.

Diese Vergleiche zeigen, dass im Falle von PVD erhebliches Rücksputtern am Susbtrat auftritt und im Falle von PECVD eine zusätzliche Biasspannung die Diffusionsbarriere der Schicht deutlich verbessert.

Danksagung: Diese Arbeiten wurden vom BMBF im Rahmen des Forscherverbundes Pluto und von der DFG im Rahmen des SFB-TR 87 unterstützt.