Berlin 2015 – scientific programme

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PV: Plenarvorträge

PV XXIV

PV XXIV: Prize Talk

Thursday, March 19, 2015, 13:15–13:45, EW 201

Theoretische Beschreibung des Trocknungsverhaltens dicker Photoresistschichten — •Maik Schönfeld, Jens Saupe, Steffen Schubert und Jürgen Grimm — Westsächsische Hochschule Zwickau, Dr.-Friedrichs-Ring 2a, D-08056 Zwickau, AG MEMS --- Laureate of the Georg-Simon-Ohm-Prize

Epoxidharz-basierte Photoresistsysteme finden neben dem Einsatz als eigentlicher Resist im Fertigungsprozeß auch als Werkstoff zur Herstellung mikromechanischer Bauelemente Anwendung. Bei der Verwendung der Strukturen als mechanische Bauelemente spielt unter Anderem die Reproduzierbarkeit der mechanischen Eigenschaften und des Fertigungsprozesses eine übergeordnete Rolle. Variationen in der Prozessierung führen hier zu erheblichen Änderungen in den mechanischen Parametern der Strukturen. Mittels einer zu Beginn der Arbeiten vorliegenden, gravimetrisch kontrollierten IR-Trocknungsmethode wurden Trocknungsverläufe für dicke Epoxidharz-basierte Photoresistschichten innerhalb des Prozessschrittes des Softbakes aufgezeichnet. Ziel der präsentierten Arbeiten war, mit Hilfe grundlegender Diffusionsmodelle anhand der angefertigten Messreihen aufzuzeigen, dass der Trocknungsprozess dicker Resistschichten überwiegend diffusionsgesteuert abläuft. Dabei soll gezielt auf einen vereinfachten, niedrigparametrigen Ansatz zur Beschreibung der Trocknungskinematik von Photoresistschichten hingearbeitet werden. Mittels einer quantitativen Beschreibung dieses Diffusionsprozesses sind grundsätzliche Aussagen über die Trocknungskinematik unterschiedlich dicker Resistschichten möglich.