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P: Fachverband Plasmaphysik

P 4: Plasma Technology

Montag, 29. Februar 2016, 14:30–16:35, b305

14:30 P 4.1 Hauptvortrag: Impact of electron attachment processes on nonthermal plasmas — •Jürgen Meichsner, Sebastian Nemschokmichal, Robert Tschiersch, and Thomas Wegner
15:00 P 4.2 Fachvortrag: Entladungsdynamik einer Mikrowellenplasmaquelle und ihr Einsatz bei Atmosphärendruck zur Dekontamination von Lebensmitteln im technologischen Maßstab — •Mathias Andrasch, Uta Schnabel, Klaus-Dieter Weltmann und Jörg Ehlbeck
15:25 P 4.3 Fachvortrag: Optical investigations of diffuse and constricted high-current vacuum arcs — •Kristoffer Ole Menzel, Thierry Delachaux, Ralf-Patrick Sütterlin, Markus Abplanalp, Ralf Methling, Steffen Franke, and Sergey Gortschakow
15:50 P 4.4 Dekomposition von VOCs mit dielektrisch behinderten Oberflächenentladungen — •Michael Schmidt, Eric Timmermann, Ronny Brandenburg und Manfred Kettlitz
16:05 P 4.5 Vergleich eines numerischen und analytischen Modells zur Simulation der Modenausbreitung in einem Mikrowellenplasma — •Daniel Szeremley, Thomas Mussenbrock, Ralf Peter Brinkmann, Marc Zimmermanns, Ilona Rolfes und Denis Eremin
16:20 P 4.6 Modellierung der CO2-Dissoziation in dielektrisch behinderten Entladungen — •Markus M. Becker, Srinath Ponduri, Richard Engeln und Detlef Loffhagen
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