Münster 1997 – wissenschaftliches Programm

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DS: Dünne Schichten

DS 14: Solarzellen und Displaytechnologie

DS 14.3: Vortrag

Dienstag, 18. März 1997, 10:45–11:00, ZB

Plasmatechnische Herstellung und Charakterisierung von leitfähigen, transparenten Schichtsystemen — •M. Bender¹, C. Daube², W. Seelig¹ und J. Stollenwerk² — ¹Institut für angewandte Physik, TH Darmstadt — ²Balzers Prozeß-Systeme GmbH, Hanau

Für viele Anwendungen der Dünnschichttechnologie sind transparente, leitfähige Materialien von großer Bedeutung. Der für diesen Zweck am meisten eingesetzte Stoff ist Indium-Zinn-Oxid (ITO). Die Eigenschaften dieses Stoffes lassen sich durch geeignete Parameterwahl bei der Deposition beeinflußen. Ziel ist dabei das Erreichen einer möglichst hohen Leitfähigkeit bei optimaler Transmission.

Wir verwenden DC-Magnetron-Sputtering zur Abscheidung von ITO- Schichten auf großflächigen Glassubstraten für die Display-Industrie. Die elektrischen und optischen Eigenschaften der Filme wurden in Abhängigkeit von Herstellparametern untersucht. Die Güte der hergestellten Filme wurde bewertet. Um der Forderung der Display-Industrie nach Materialien besserer Leitfähigkeit bei gleichbleibender Transparenz nachzukommen, wurde ein Multilayer-System ITO-Metall-ITO (IMI) untersucht. Durch einen zwischen zwei ITO-Filme eingebetteten dünnen Metall-Film gelang es, die Leitfähigkeit im Vergleich zu ITO-Filmen gleicher Transmission erheblich zu steigern. Die optischen und elektrischen Eigenschaften der einzelnen Filme wurden untersucht, und anhand von Modellrechnungen wurde die Zusammensetzung der IMI-Multilayer optimiert.