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DS: Dünne Schichten

DS 16: Multilayer

DS 16.3: Vortrag

Dienstag, 18. März 1997, 12:15–12:30, H 55

Einfluss der Depositionsparameter und der Chemie von Ni/Ti Vielschichtsystemen auf Korngrößen, Kristallographie und Grenzflaechenrauhigkeiten; eine TEM Untersuchung — •K. Leifer¹, P.A. Buffat¹, P. Böni², H. Grimmer² und I. Anderson³ — ¹CIME, EPFL, Lausanne, Schweiz — ²LNS,Paul-Scherrer Institut, Villigen, Schweiz — ³Institut Laue-Langevin, Grenoble, Frankreich

Polykristalline Ni/Ti Vielschichtsysteme mit Ni/Ti Einzelschichtdicken von 5-40nm werden als Neutronenspiegel in der SINQ benutzt. Um die Grenzflächenrauhighkeiten und -interdiffusion zu minimieren und damit optimale Neutronenreflektivitäten zu erzielen, wurden 1) die Wachstumsparameter waehrend des Magnetronsputterns variiert und 2) sowohl reaktive Gase (O,N,H) als auch Feststoffe (C,V) waehrend des Schichtwachstums kontrolliert zugegeben. Die strukturelle Charakterisierung der Schichten mit Methoden der Transmissionselektronenmikroskopie (TEM) zeigt, daß die Textur, Korngrößen, und Rauhigkeiten sowohl mit den Wachstumsparametern als auch mit der Art und Konzentration der Verunreinigung korreliert sind. Die Charakterisierung der Chemie der Schichten mit einer Ortsauflösung von 1.5nm mit paralleler Elektronenenergieverlustspektroskopie (PEELS) im TEM zeigt, daß beigemischte Gase inhomogen in den Schichten verteilt. Details einer Phasenumwandlung von hex Ti zu fcc Ti, die während der TEM Präparation stattfindet, werden erläutert.