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DS: Dünne Schichten

DS 2: YSZ

DS 2.2: Vortrag

Montag, 17. März 1997, 10:30–10:45, H 55

Schräges Aufdampfen von YSZ auf amorphen und polykristallinen Substraten — •Joachim Schwachulla, Stefan Furtner, Markus Bauer und Helmut Kinder — TU München, Physik Department E10, 85747 Garching

Die einfache Herstellung von in–plane orientierten YSZ–Schichten auf polykristallinen oder amorphen Substraten ist von großem Interesse für die Deposition von YBCO–Schichten für technische Anwendungen. Dabei ist ein Verfahren mit hohen Depositionsraten wie das von uns verwendete Elektronenstrahlverdampfen von Vorteil. Im Rahmen der vorgestellten Arbeit soll geklärt werden, ob sich durch Verkippen der Substratnormalen gegen die Aufdampfrichtung eine in–plane Textur erzwingen läßt. Es wurden YSZ-Pufferschichten auf SiO₂, Ni und Hastelloy Substraten aufgedampft und mit REM und XRD charakterisiert. Bei unverkipptem Substrat können in Abhängigkeit von den Depositionsparametern sowohl <111> als auch <100> texturierte polykristalline YSZ–Filme hergestellt werden. Diese weisen eine kolumnare Struktur auf. Wird das Substrat verkippt, folgt die Richtung der Wachstums säulen der Depositionsrichtung. Texturmessungen zeigen eine Orientierung der YSZ–Schichten in der Substratebene. Bei weiterer Optimierung der Depositionsparameter scheint die Abscheidung von in–plane orientierten YSZ–Schichten durch schräges Aufdampfen möglich.