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DS: Dünne Schichten

DS 20: Laserdeposition

DS 20.3: Vortrag

Dienstag, 18. März 1997, 15:45–16:00, ZB

C-N-Schichten hergestellt mittels Laser-CVD — •Kay Schuster, Fritz Falk und Herbert Stafast — Institut für Physikalische Hochtechnologie e.V., Helmholtzweg 4, 07743 Jena

Kohlenstoffnitrid-Schichten wurden mit Hilfe der Laser-CVD hergestellt. Als Precursoren dienten Ammoniak/Tetrachlorkohlenstoff sowie Cyanazid, die mit einem ArF-Excimerlaser (193 nm) bestrahlt wurden. Die abgeschiedenen amorphen Schichten enthalten mikrokristalline Anteile. Sie sind optisch transparent (2,6 eV Tauc-Bandgap), elektrisch isolierend und chemisch gegenüber Säuren, Laugen sowie organischen Lösungsmitteln beständig. Oberhalb 1000 K zersetzen sie sich in Dicyan. ESMA- und ERDA-Messungen liefern ein N/C-Verhältnis von bis zu 1,3. XPS-Messungen zeigen, daß sowohl Kohlenstoff wie auch Stickstoff in zwei Bindungszuständen vorliegen.