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DS: Dünne Schichten

DS 26: Neue Charakterisierungsverfahren

DS 26.2: Vortrag

Donnerstag, 20. März 1997, 15:30–15:45, PC 7

Röntgenfluorenszenzanalyse an leichten Elementen mit Pinchplasmen — •O. Treichel, K. Bergmann, G. Schriever und R. Lebert — Lehrstuhl für Lasertechnik, RWTH Aachen, Steinbachstr. 15, 52074 Aachen

Für die Röntgenfluoreszenzanalyse (XFA) leichter Elemente (Z<10) sind Quellen mit einer Emission nahe der Photoabsorptionskante dieser Elemente, d.h. im weichen Röntgenbereich (λ: 0.1…20 nm), besser geeignet als konventionelle Röntgenröhren. Solche Quellen sind sowohl laserproduzierte Plasmen als auch die in einer Gasentladung erzeugten Pinchplasmen. Beides sind gepulst betriebene Laborquellen mit einer intensiven Emission im Bereich der weichen Röntgenstrahlung.

Die Linien–/Kontinuumsstrahlung der Quelle wurde mit einem Ellipsoidspiegel auf die Oberfläche eines Festkörpers abgebildet, wobei die Wechselwirkung der Primärstrahlung mit der Probe eine Emission von Photoelektronen und Röntgenfluoreszenzquanten bewirkt. Auf das Experiment abgestimmte Monte–Carlo Simulationsrechnungen liefern im Zusammenhang mit experimentellen Ergebnissen quantitative Aussagen über die Brillianz der Fluoreszenzstrahlung. Die in Experimenten charakterisierten Quellen sowie Konzepte zur wellenlängen- und ortsaufgelösten Fluoreszenzanalyse mit Röntgenoptiken wie abbildende Kristalle und Zonenplatten werden vorgestellt.