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DS: Dünne Schichten
DS 31: Plasma– und Ionentechniken
DS 31.4: Talk
Friday, March 21, 1997, 12:30–12:45, PC 7
Plasmadiagnostik bei Beschichtungsprozessen mittels Plasmapolymerisation — •S. Schreiber, G. Crolly, and H. Oechsner — Fachbereich Physik, Universit"at Kaiserslautern, Erwin-Schr"odinger-Str., D-67663 Kaiserslautern
Induktiv erzeugte HF-Niederdruckplasmen vom ECWR-Typ wurden im Druckbereich von 0.05-2 Pa mittels Optischer Emissionsspektroskopie OES, energiedispersiver Massenspektroskopie EDMS und elektrostatischer Doppelsondentechnik f"ur die Proze"sgase C2H2 und C2H4 untersucht. Die zur Absolutbestimmung von Elektronentemperatur Te und Plasmadichte ne geeignete Doppelsondentechnik ist wegen der Abscheidung isolierender Schichten auf der Sondenoberfl"ache im Normalbetrieb problematisch. Durch Heizen der Sonde gelingt es jedoch f"ur l"angere Zeit (ca.12 h) isolierende Schichten zu vermeiden. Typische Werte der Elektronentemperatur Te liegen f"ur die hier betrachteten Reaktivgasplasmen zwischen 3 und 12 eV bei Plasmadichten von 1015-1016 m−3. Bei den OES-Messungen wurde insbesondere der Zusammenhang von Intensit"at der aufgenommenen Emissionslinien (H 656 nm ; CH 431,2 nm ; H2 612,2 nm) und der Plasmadichte untersucht. Zus"atzlich wurde der Einflu"s der Plasmagr"o"sen auf die Oberfl"ache der auf Glassubstraten abgeschiedenen Polymerschichten mittels AFM und IR-Spektroskopie untersucht.