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DS: Dünne Schichten

DS 33: Postersitzung

DS 33.60: Poster

Tuesday, March 18, 1997, 16:15–17:45, Aula

Konzept, Leistung und Anwendung einer kombinierten UHV STM/SEM/SAM-Apparatur — •A. Wießner¹, M. Agne¹, G. Schäfer², Th. Berghaus² und J. Kirschner¹ — ¹Max-Planck-Institut für Mikrostrukturphysik, Weinberg 2, 06120 Halle (Saale) — ²OMICRON Vakuumphysik GmbH, Idsteiner Straße 78, 65232 Taunusstein

Die Kombination von Raster-Tunnel-Mikroskopie (STM) mit Raster-Elektronen-Mikroskopie (SEM) bietet viele Vorzüge, die von einer einzelnen Methode nicht erbracht werden können. So erweitert das STM die Vergrößerung des SEM bis in den atomaren Bereich und ermöglicht eine exzellente vertikale Auflösung. Das SEM hingegen erlaubt einen globalen Überblick von der Probe und eine exakte Positionierung der Tunnelspitze an die zu untersuchende Position. Zusätzlich ermöglicht ein Elektronenenergie-Analysator (Cylindrical Sector Anayzer, CSA) die Messung von Auger-Spektren und Raster-Augerelektronen-Mikroskopie (SAM). Weitere Methoden wie Niederenergetische Elektronenbeugung (LEED) und Hochenergetische Elektronenbeugung in Reflexion (RHEED) können zur Probenanalyse verwendet werden. Das Konzept, die Leistungsfähigkeit und die bisher gesammelten Erfahrungen mit der Apparatur werden diskutiert. An mehreren Beispielen werden Anwendungsmöglichkeiten für die Apparatur gezeigt, die z.B. in der Untersuchung von Strukturen liegen, die mit dem STM alleine nur schwer aufgefunden werden können.